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產(chǎn)品名稱:
瑞士IMT空間濾波器
產(chǎn)品時(shí)間:
2025-04-18
產(chǎn)品型號(hào):
SF系列 SF-NK200
產(chǎn)品報(bào)價(jià):
10000
產(chǎn)品特點(diǎn):
赫爾納供應(yīng)瑞士IMT空間濾波器 SF系列 SF-NK200,德國(guó)總部直接采購(gòu),近30年進(jìn)口工業(yè)品經(jīng)驗(yàn),原裝產(chǎn)品,支持選型,為您提供一對(duì)一的解決方案:貨期穩(wěn)定,報(bào)價(jià),價(jià)格優(yōu),在中國(guó)設(shè)有8大辦事處提供相關(guān)售后服務(wù)。
  SF系列 SF-NK200瑞士IMT空間濾波器的詳細(xì)資料:

瑞士IMT空間濾波器

赫爾納供應(yīng)瑞士IMT空間濾波器,德國(guó)總部直接采購(gòu),近30年進(jìn)口工業(yè)品經(jīng)驗(yàn),原裝產(chǎn)品,支持選型,為您提供一對(duì)一的解決方案:貨期穩(wěn)定,報(bào)價(jià),價(jià)格優(yōu),在中國(guó)設(shè)有8大辦事處提供相關(guān)售后服務(wù)。

 

公司簡(jiǎn)介

瑞士IMT AGIMT Masken und Teilungen AG)成立于瑞士格林芬塞(Greifensee),專注于高精度光學(xué)組件與微結(jié)構(gòu)加工技術(shù)的研發(fā)與生產(chǎn)。公司通過(guò)精密光刻、蝕刻及薄膜涂層技術(shù),為全球工業(yè)、科研及醫(yī)療領(lǐng)域提供定制化光學(xué)解決方案。其產(chǎn)品以嚴(yán)格的工藝控制和穩(wěn)定的性能著稱,廣泛應(yīng)用于激光技術(shù)、顯微成像及光學(xué)檢測(cè)等領(lǐng)域。

 

產(chǎn)品類型

IMT AG的空間濾波器(SF系列)包含以下主要類型:

1.標(biāo)準(zhǔn)空間濾波器:用于光束準(zhǔn)直與雜散光過(guò)濾。

2.Nipkow盤(pán)空間濾波器:專為共聚焦顯微鏡設(shè)計(jì)的旋轉(zhuǎn)盤(pán)結(jié)構(gòu)。

3.Hartmann板:用于光學(xué)系統(tǒng)波前像差檢測(cè)。

4.定制化多孔陣列:支持復(fù)雜孔徑圖案設(shè)計(jì)。

5.高密度微孔濾光片:適用于激光模式篩選與光束整形。

 

主要型號(hào)

SF系列涵蓋以下主要型號(hào)

SF-2µm:基礎(chǔ)型單孔空間濾波器,孔徑≥2 µm

SF-NK200Nipkow盤(pán),孔徑螺旋排列,適配共聚焦成像系統(tǒng)。

SF-HP10Hartmann板,10×10陣列,用于光學(xué)檢測(cè)。

SF-MA500:多孔陣列濾光片,支持500通道分光。

SF-Chrome:鍍鉻涂層濾光片,光學(xué)密度>3。

 

產(chǎn)品介紹

一、標(biāo)準(zhǔn)空間濾波器(SF-2µm)技術(shù)參數(shù):

1.基底材料:熔融石英(Fused Silica)、硼硅玻璃(Borofloat)。

2.孔徑范圍:2 µm500 µm(公差±0.5 µm)。

3.涂層:鉻(Chrome)或IMTBC黑鉻,厚度0.3–10 mm。

4.工作原理:通過(guò)微米級(jí)孔徑限制光束發(fā)散角,濾除高階光學(xué)模式,提升激光束質(zhì)量。

 

二、Nipkow盤(pán)(SF-NK200)技術(shù)參數(shù):

1.孔徑排列:螺旋式分布,支持高速旋轉(zhuǎn)。

2.基底厚度:1.1 mmD263玻璃)。

3.功能:用于共聚焦顯微鏡照明系統(tǒng),通過(guò)同步旋轉(zhuǎn)與成像消除背景雜散光。

 

三、Hartmann板(SF-HP10)技術(shù)參數(shù):

1.陣列密度:10×10孔陣,孔徑5 µm。

2.基底:熔融石英,厚度0.5 mm。

3.應(yīng)用:搭配CCD檢測(cè)光學(xué)系統(tǒng)像差,適用于激光校正與眼科診斷。

 

優(yōu)勢(shì)特點(diǎn)

1.高精度加工:孔徑公差控制±0.5 µm,位置偏差<±0.5 µm

2.多樣化基底選擇:支持熔融石英、硼硅玻璃等材料,適配不同光學(xué)環(huán)境。

3.嚴(yán)格質(zhì)量控制:鍍層無(wú)缺陷工藝,避免成像噪點(diǎn)或信號(hào)干擾。

4.靈活定制:支持孔徑尺寸、陣列密度及涂層類型的個(gè)性化需求。

5.長(zhǎng)期穩(wěn)定性:耐高溫、抗激光損傷,適用于高功率激光系統(tǒng)。

 

主要應(yīng)用

1.激光光學(xué):激光束準(zhǔn)直、模式凈化及焦點(diǎn)優(yōu)化。

2.顯微成像:共聚焦顯微鏡、熒光顯微系統(tǒng)。

3.光學(xué)檢測(cè):波前傳感器、光學(xué)元件像差分析。

4.半導(dǎo)體加工:光刻機(jī)光束整形與掩模校準(zhǔn)。

5.健康監(jiān)測(cè)設(shè)備:眼科診斷儀器(如LASIK術(shù)前檢測(cè))。

 

 

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